壁通紙（ウォール・ストリート・ジャーナル）によると、ASMLは、AI向けチップへの需要の拡大に対応するため、EUVリソグラフィ装置の生産を大幅に増やす計画だ。
この記事 AIの最重要マシンに独占状態を持つ企業が、より多くを作るために加速している は、The Decoder に最初に掲載された。
AIに最重要の「極端紫外線（EUV）露光装置」を独占級に持つASMLが、より多くの生産に向け急ぐ
THE DECODER / 2026/4/27
📰 ニュースSignals & Early TrendsIndustry & Market Moves
要点
- ASMLは、AI向けチップの需要増に対応するため、EUV（極端紫外線）露光装置の生産を大幅に増やす計画だ。
- EUV露光は先端半導体を製造するうえでの重要なボトルネック技術であることが示唆されている。
- EUVの増産は、先進的なチップに依存するAIワークロードの拡大を支えるために必要と位置づけられている。
- ウォール・ストリート・ジャーナル報道によれば、AIハードウェア市場の成長ペースに追いつくため、生産拡大の取り組みを加速しているという。
